电子光学行业生产用水，如半导体、集成电路芯片及封装用水、电子试剂用水,电子管涂敷配液用水、液晶显示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光学镜片清洗用水、各种高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模集成电路等生产用水需求。既将水中的导电介质几乎完全去除，水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水称为超纯水,我国电子工业部将电子工业用水划分为四级用水标准（18MΩ/CM、15MΩ/CM、12MΩ/CM、0.5MΩ/CM），科利达环保采用采用当今先进的双级反渗透纯化水处理技术＋EDI模块化设计,原水通过一、二级反渗透系统去除各种盐份及杂质,再经过EDI系统对反渗透产水高度净化，使水质提高。此电子行业EDI超纯水设备不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，系统工艺先进、水质稳定、自动化程度高、操作简便、占地少、运行费用低、绿色环保、维护方便,处理后可生产出水电阻率可达到18.2兆欧及以上的超纯水。
一、 分类标记：
I级电子级水标记为：EW-I；
II级电子级水标记为：EW-Ⅱ；
III级电子级水标记为：EW-Ⅲ；
Ⅳ级电子级水标记为：EW-Ⅳ；
二、 级别指标：
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级别指标 |
EW-I |
EW-Ⅱ |
EW-Ⅲ |
EW-Ⅳ |
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电阻率 MΩ﹒cm(25℃) |
18以上 (95N时间) 不低于17 |
15 (95N时间) 不低于13 |
12.0
|
0.5
|
|
全硅，值，µg/L |
2 |
10 |
50 |
1000 |
|
>1µm微粒数，值，个/mL |
0.01 |
5 |
10 |
500 |
|
细菌个数，值，个/mL |
0.01 |
0.1 |
10 |
100 |
|
铜,值，µg /L |
0.2 |
1 |
2 |
500 |
|
锌，值，ug/L |
0.2 |
1 |
5 |
500 |
|
镍，值．µg/L |
0.1 |
1 |
2 |
500 |
|
钠．值，µg /L |
0.5 |
2 |
5 |
1000 |
|
钾，值．ug/L |
0.5 |
2 |
5 |
500 |
|
氯，值．ug/L |
l |
l |
10 |
1000 |
|
硝酸根，值，ug/L |
1 |
1 |
5 |
500 |
|
磷酸根，值．ug/L |
1 |
1 |
5 |
500 |
|
硫酸根，值, ug/L |
1 |
1 |
5 |
500 |
|
总有机碳，值，ug/L |
20 |
100 |
200 |
1000 |
三、 常用工艺：
(1)预处理+一级反渗透+二级反渗透
(2)预处理+一级反渗透+EDI设备
(3)预处理+一级反渗透+二级反渗透+EDI设备+核能混床
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